Гель для очищения кожи лица WASH the day off

150 ML

29.00

  • Не содержит отдушки.
  • Разработано для чувствительной кожи.
Size guide

В наличии

Количество
Категория:

Представляем вашему вниманию гель для очищения кожи лица WASH the day off! Рецепт от врачей для идеально чистой кожи! Наш удивительный гель для очищения кожи лица является отличным началом процедуры по уходу за кожей и оптимальным стартовым средством для подготовки кожи перед макияжем. Этот слегка пенящийся, не содержащий отдушки гель мягко очищает кожу лица благодаря природным антибактериальным и противовоспалительным свойствам алоэ вера. Макияж, загрязнения, омертвевшие клетки кожи и частицы удаляются, не раздражая кожу. Комбинация глицерина и пантенола смягчает и увлажняет кожу, а аллантоин обладает успокаивающим действием. Ваша кожа становится свежей, чистой и спокойной. Идеальное средство для повседневного ухода за кожей.

  • Не содержит отдушки.
  • Разработан для чувствительной кожи.
  • Согласно результатам клинических исследований, гель для очищения кожи лица, WASH the day off, отлично очищает и не раздражает кожу.

Этот продукт является веганским и не содержит парабены, силикон и микрочастицы пластмасс.

ОБЪЕМ: 150 мл

Клинические исследования

Согласно результатам клинических исследований, гель для очищения кожи лица WASH the day off отлично очищает и не раздражает кожу.

Применение

Нанесите гель на влажную кожу и помассируйте ее кончиками пальцев мягкими круговыми движениями, ополосните лицо водой. Применяйте средство по вечерам или утром и вечером. Избегайте попадания средства в глаза. 

Для достижения отшелушивающего эффекта наносите средство с помощью щетки для чистки лица.

Состав:

вода, лауретсульфат натрия, сок листьев алоэ барбаденсис, кокамидопропилбетаин, глицерет-2 кокоат, глицерин, децил глюкозид, феноксиэтанол, хлорид натрия, пантенол, аллантоин, лимонная кислота, ПЭГ-4 рапсидамид, бензоат натрия.

There are no reviews yet.

Be the first to review “Гель для очищения кожи лица WASH the day off”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *